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全书共13章，从TFT元件的结构及特点，到TFT检查与修复，包括TFT阵列制作清洗工艺、成膜工艺、光刻工艺、不良解析和检查修复。本书从TFT阵列大规模制造的角度，第一次比较全面地介绍了TFT-LCD生产线的TFT阵列制造工艺技术、工艺参数、生产工艺技术管理、工艺材料规格、设备特性、品质控制、产品技术解析;以工艺原理、设备参数控制、材料特性要求、生产工艺文件要求等大规模生产技术要素为核心，比较完整地介绍了现代化信息制造业的工艺流程与工艺管理。
目录：
第一章 TFT-LCD生产线建设
第二章 TFT元件的结构及特点
第三章 TFT工艺概述
第四章 TFT阵列制作清洗工艺
第五章 溅射成膜(金属膜)
第六章 CVD成膜(非金属膜)
第七章 曝光与显影工艺技术
第八章 湿刻工艺技术
第九章 干刻技术
第十章 光刻胶剥离与退火
第十一章 缺陷解析技术
第十二章 TFT检查与修复
第十三章 TFT制造工艺小结与技术展望 -
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